牛津仪器 等离子体增强化学气相沉积系统（PECVD）PlasmaPro 1000
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简介：大面积刻蚀与沉积的量产型解决方案，LED工业要求高产量，高器件质量和低购置成本。 PlasmaPro 1000更好地解决了这些需求。 更大的批量生产能力 高产量 更稳定的器件质量 低购置成本 提供单晶圆传送腔室或者多至三个腔室的集群式配置 ...
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- 产品介绍
大面积刻蚀与沉积的量产型解决方案，LED工业要求高产量，高器件质量和低购置成本。 PlasmaPro 1000更好地解决了这些需求。
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更大的批量生产能力
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高产量
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更稳定的器件质量
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低购置成本
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提供单晶圆传送腔室或者多至三个腔室的集群式配置
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标准的真空传送腔室，具有直开式和集群式选项
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出色的正常运转时间
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高质量器件性能和良率
特点
PlasmaPro 1000设备能为LED生产商提供更好的行业优势
490mm电极 - 更为先进的批量规模，多达7 x 6”晶圆，提供了更高的产量
可靠的硬件系统易维护性 - 出色的正常运转时间
最大化压盘 - 增强晶圆冷却
Z向可移动电极 - 更好的均匀性
双进气口 - 易于工艺调整
特殊的载盘设计 - 每片晶圆在最小的边缘去除区域之内，均获得有效的冷却，且易于使用和维护
高导通的径向（轴对称）抽气结构 - 确保提升了工艺均匀性和速率
应用
- 高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途
- 用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀
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