捷欧路JEOL JBX-9500FS 电子束光刻系统是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界最高水平的产出量和定位精度,最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。
此外,由于具有100MHz的最快扫描速度,场尺寸在1000µm×1000µm时的套刻精度达到±11nm、场拼接精度为±10nm、写场内位置精度达±9nm,是兼具世界最高水准产出率和位置精度的100kV圆形束光刻系统。由于采用的位置偏转DAC为20位,扫描DAC为14位,能获得0.25nm的扫描步距,分辨率更高,描画数据增长1nm,可以更忠实地再现描画数据。最快达到100MHz的高速化扫描速度,保证了大电流描画时的扫描步距很短,因而能提高对精度要求极高的图形描画的产出量。由激光束控制(LBC)的0.15nm(λ/4096)的最小定位单位及高分辨率,达到了世界最高水准的位置精度。
捷欧路JEOL JBX-9500FS 电子束光刻系统的自动校正功能(自动补偿功能),实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间(任意的)、场和图形进行分别设定,非常适合于周末及休假等无人值守等情况下的长时间描画。该系统最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的光掩模版,适合于纳米压印、光子器件、通信设备等各种领域的研发及生产。采用材料卡匣传送系统(选配),最多可装载10个卡匣。利用微间距控制程序(场尺寸微调程序)可以制作DFB激光器等的啁啾光栅。
电子枪 |
ZrO/W 肖特基型 |
描画方式 |
圆形束, 矢量扫描, 步进重复式 |
加速电压 |
100kV |
样品尺寸 |
样品尺寸 (可以安装): 最大300mmΦ的晶圆片, 最大6英寸的掩模版, 任意尺寸的的微小样品。 |
最大场尺寸 |
1000µm×1000µm |
样品台移动范围 |
260mmX240mm |
样品台控制单元 |
0.15nm(λ/4096) |
套刻精度 |
≦±11nm |
场拼接精度 |
≦±10nm (场尺寸为1000µm×1000µm) |
写场内位置精度 |
≦±9nm(场尺寸为1000µm×1000µm) |
定位DAC |
20位 |
扫描速度 |
最大 100MHz |