捷欧路JEOL JBX-3200MV 电子束光刻系统
名称：其他仪器与工具
品牌：
型号：
简介：捷欧路JEOL JBX-3200MV 电子束光刻系统是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形...
申请服务
- 产品介绍
捷欧路JEOL JBX-3200MV 电子束光刻系统是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。利用步进重复式曝光的优点，结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能，能支持下一代掩模版/中间掩模版（mask/reticle）图形制作所需要的多种补偿。
| 拼接精度 | ≦±3.5 nm |
| 套刻精度 | ≦±5 nm |
最新产品
相关产品
