牛津仪器 FlexAL原子层沉积（ALD）系统
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简介：原子层沉积 (ALD) 是一种真正的纳米技术, 可以准确可靠地沉积仅几个纳米厚的超薄薄膜。等离子体可以实现出色的表面预处理, 控制薄膜性质以及作为种类广泛的沉积源。 牛津仪器 FlexAL原子层沉积（ALD）系统 可提供远程等离子体原子层沉...
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- 产品介绍
原子层沉积 (ALD) 是一种真正的纳米技术, 可以准确可靠地沉积仅几个纳米厚的超薄薄膜。等离子体可以实现出色的表面预处理, 控制薄膜性质以及作为种类广泛的沉积源。牛津仪器 FlexAL原子层沉积（ALD）系统可提供远程等离子体原子层沉积（ALD），这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性。
牛津仪器 FlexAL原子层沉积（ALD）系统涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求。
牛津仪器 FlexAL原子层沉积（ALD）系统涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求。
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在同一设备中可灵活使用远程等离子体与热ALD
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集群式配置保证始终于真空下传送衬底
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盒式对盒式操作可提高产能以适于量产
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对材料和气体/液体源的选择具有更大的灵活性
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等离子体ALD可进行低温工艺
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使用远程等离子体以确保低损伤
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通过配方驱动的软件界面实现可控的和可重复的工艺
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可处理高达200mm的晶圆
牛津仪器 FlexAL原子层沉积（ALD）系统特点
牛津仪器有大量的工艺储备，并且还在不断开发新的工艺。z6尊龙凯时为所有的ALD设备提供终身免费的、延续不断的工艺支持，z6尊龙凯时还将为您提供关于开发新材料的建议，同时继续与您共享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。
气体/液体源前驱体模式上 - 一体化手套箱 —— 实时转换
一体化端口 - 允许添加实时椭偏仪测量工具
集群式配置 - 始终于真空下传送衬底
盒式对盒式操作 - 可提高产能以适于量产
机器手臂与片盒式 - 可处理100mm，150mm或200mm晶圆（无需额外设备进行晶圆交换）
所有系统都可以放置于超净间内或嵌入墙体 - 易于放置
自动化的200mm晶圆真空传送 - 工艺灵活性
牛津仪器 FlexAL原子层沉积（ALD）系统应用
- 纳米电子
- 高K栅氧化物
- 存储电容电介质
- 用于Cu互连的高深宽比扩散隔层
- 用于OLED和聚合物的无针孔钝化层
- 用于晶体硅太阳能电池的钝化
- 用于微流体和MEM的高保形涂层
- 纳米多孔结构的涂层
- 生物MEMS
- 燃料电池
- 学习
- 原子尺度工艺
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