捷欧路JEOL JEM-2200FS 场发射透射电子显微镜
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简介：捷欧路JEOL JEM-2200FS 场发射透射电子显微镜配备场发射电子枪和型内置式能量过滤器(Omega过滤器)。 利用过滤器的功能，不仅可以进行样品中的元素分析，还能分析化学结合状态，从零损失像和能量过滤像中获得感兴趣的有用信息。捷欧路...
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- 产品介绍
捷欧路JEOL JEM-2200FS 场发射透射电子显微镜配备场发射电子枪和Ω型内置式能量过滤器(Omega过滤器)。 利用过滤器的功能，不仅可以进行样品中的元素分析，还能分析化学结合状态，从零损失像和能量过滤像中获得感兴趣的有用信息。捷欧路JEOL JEM-2200FS 场发射透射电子显微镜镜筒内置式能量过滤器能获取高精度的能量过滤像及电子能量损失谱，优化设计的过滤器能提供无畸变的过滤像。
捷欧路JEOL JEM-2200FS 场发射透射电子显微镜电子枪、透镜、过滤器等电子光学系统、测角台、抽真空系统等全部由计算机控制。系统的稳定性高，因此能获得稳定的数据。捷欧路JEOL JEM-2200FS 场发射透射电子显微镜采用四级中间镜和两级投影镜的新成像系统，在很大的倍率和相机长度范围，实现了TEM像及衍射花样的磁转角补偿（无磁转角）。捷欧路JEOL JEM-2200FS 场发射透射电子显微镜新的测角台采用了压电陶瓷控制，方便操作原子级的视场搜索。
| 物镜种类*1 |
极高分辨率 （UHR）型 |
高分辨率 （HR）型 |
样品高倾斜 （HT）型 |
样品冷却 （CR）型 |
高衬度 （HC）型 |
| 分辨率 | |||||
|
点分辨率 晶格分辨率 |
0.19 nm 0.1 nm |
0.23 nm 0.1 nm |
0.25 nm 0.1 nm |
0.27 nm 0.14 nm |
0.31 nm 0.14 nm |
| 能量分辨率 | 0.8 eV（零损失 FWHM） | ||||
| 加速电压 | 160 kV，200 kV*2 | ||||
| 电子枪 | |||||
| 发射体 | ZrO/W(100) 肖特基式 | ||||
| 亮度 | ≧4×108 A／cm2 ・ sr | ||||
| 真空度 | ×10-8 Pa 级 | ||||
| 探针电流 | 探针直径为１ nm ，在0.5 nA以上 | ||||
| 稳定度 | |||||
| 加速电压 | ≦1×10-6／min | ||||
| 物镜电流 | ≦1×10-6／min | ||||
| 过滤器电流 | ≦1×10-6／min | ||||
| 物镜 | |||||
| 焦距 | 1.9 mm | 2.3 mm | 2.7 mm | 2.8 mm | 3.9 mm |
| 球差系数 | 0.5 mm | 1.0 mm | 1.4 mm | 2.0 mm | 3.3 mm |
| 色差系数 | 1.1 mm | 1.4 mm | 1.8 mm | 2.1 mm | 3.0 mm |
| 最小焦距步长 | 1.0 nm | 1.4 nm | 1.8 nm | 2.0 nm | 5.2 nm |
| 束斑尺寸 | |||||
| TEM 模式 | 2 ～ 5 nm | ７ ～30 nm | |||
| EDS 模式 | 0.5 ～ 2.4 nm | 1.0 ～2.4 nm | - | 4 ～20 nm | |
| NBD 模式 | 0.5 ～ 2.4 nm | 1.0 ～2.4 nm | - | - | |
| CBD 模式 | 0.5 ～ 2.4 nm | 1.0 ～2.4 nm | - | ||
| 电子束衍射 | |||||
| 衍射角(2α) | 1.5 to 20 mrad 以上 | - | |||
| 取出角 | ±10 ° | - | |||
| 倍率 | |||||
| MAG 模式 | ×2,000 ～ 1,500,000 | ×2,000 ～ 1,200,000 | ×1,500 ～ 1,000,000 | ×1,200 ～ 600,000 | |
| LOW MAG 模式 | ×50 to1,500 | ||||
| SA MAG 模式 | ×10,000 ～ 800,000 | ×8,000 ～ 600,000 | ×8,000 ～500,000 | ×5,000 to 400,000 | |
|
能量过滤像 有效视场大小 |
选择10eV时，最终像平面（底片)上直径为80mm 选择2eV时，最终像平面(底片)上直径为25mm |
||||
| 相机长度 | |||||
| 选区电子衍射 | 150 ～ 1,500mm | 200 ～ 2,000 mm | 250 ～ 2,500 mm | 300 ～ 3,000 mm | |
| EELS 散射 | |||||
| 狭缝上 | 1.2 μm／eV, 200 kV | ||||
| 最终像平面 | 50 ～ 300 μm／eV, 200 kV | ||||
| 样品室 | |||||
| 移动量(XY / Z) | 2mm／0.2mm | 2mm／0.4mm | 2mm／0.4mm | 2mm／0.4mm | 2mm／0.4mm |
| 倾斜角(X / Y)*3 | ±25°／±25° | ±35°／±30° | ±42°／±30° | ±15°／±10° | ±38°／±30° |
| 倾斜角(X)*4 | ±25° | ±80° | ±80° | ±80° | ±80° |
| EDS*5 | |||||
| 固体角*6 | 0.13 sr | - | 0.09 sr | ||
| 取出角 | 25° | - | 20° | ||
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